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濕法刻蝕專用系統(tǒng)

    CHEMIXX E 30 濕法刻蝕系統(tǒng)專門用于掩膜版與晶圓的刻蝕與清洗,安全性能好,可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液體。

    更新時間:2022-11-25 17:32:29
  1. 詳細信息

n產(chǎn)品簡介

 

CHEMIXX E 30 濕法刻蝕系統(tǒng)專門用于掩膜版與晶圓的刻蝕與清洗,安全性能好,可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液體。

 

n產(chǎn)品特色

÷ 人工裝卸半自動化系統(tǒng)

÷ 掩膜版尺寸(方形襯底)高達 230 x 230 毫米/9 x 9 英寸

÷ 晶圓尺寸高達 300 毫米(?12 英寸)

÷ 耐腐蝕工藝室

÷ 兩個自動輸送臂,用于化學刻蝕及清洗

÷ 輸送臂最大6路管路

÷ 提供多種噴嘴

÷ 低接觸或定制夾頭

÷ 化學液具有加熱選項:20 - 80°C

÷ 腔室沖洗噴嘴系統(tǒng)

÷ 去離子水的 BSR(背面沖洗)噴嘴

÷ 工藝室外的手動去離子水槍

÷ 最大的集成3個化學試劑容器罐(每個 10 升),具有化學液自動排放系統(tǒng)

÷ 不同化學品的外部化學試劑容器罐可選H2SO4、H2O2、NH4OH、HF、BOE

÷ 手動灌裝或通過批量灌裝系統(tǒng)

÷  清洗模組可選用化學液,噪聲,PVA刷洗,高壓等離子水沖洗

÷  支持SCES/GEM 通訊協(xié)議

 

n技術數(shù)據(jù)

 

÷ 襯底尺寸最大可達 230 x 230 mm (9″x 9″)  ? 300mm (?12″)

÷ 電機轉速最大 4.000 rpm步長 1 rpm

÷ 電機加速最大 5.000 rpm/s, 步長 1 rpm/s

÷ 步進時間: 1  999.9 秒,步長 0.1 s

÷ 工藝腔材料PP  (可選 PVDF)

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